激光退火设备原理
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激光退火设备工作原理：
传统的加热退火技术是将整个工件置于真空炉中。激光退火技术主要用于修复半导体材料，特别是硅的离子注入损伤，在一定温度(300~ 1200)下保持和退火10 ~ 60min。退火是一种金属热处理过程，将金属缓慢加热到一定温度，保持足够的时间，然后以适当的速度冷却。目的是降低硬度，提高可加工性，消除残余应力，稳定尺寸，减少变形和裂纹倾向，细化晶粒，调整组织，消除组织缺陷。确切地说，退火是对材料的热处理过程，包括金属材料和非金属材料。而且，新材料的退火目的不同于传统的金属退火。
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